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太阳能工艺

非晶硅薄膜太阳能电池及制造工艺

激光制造网通讯员 来源:广东星之球2011-01-22 我要评论(0 )   

内容提纲 一、非晶硅薄膜太阳能电池结构、制造技术简介 二、非晶硅太阳能电池制造工艺 三、非晶硅电池封装工艺 一、 非晶硅薄膜太阳能电池结构、制造技术简介 1、电池结...

内容提纲

一、非晶硅薄膜太阳能电池结构、制造技术简介

二、非晶硅太阳能电池制造工艺

三、非晶硅电池封装工艺

 

一、                 非晶硅薄膜太阳能电池结构、制造技术简介

1、电池结构

分为:单结、双结、三结

2、制造技术

三种类型:

①单室,多片玻璃衬底制造技术

该技术主要以美国Chronar、APS、EPV公司为代表

②多室,双片(或多片)玻璃衬底制造技

该技术主要以日本KANEKA公司为代表

③卷绕柔性衬底制造技术(衬底:不锈钢、聚酰亚胺)

该技术主要以美国Uni-Solar公司为代表

所谓“单室,多片玻璃衬底制造技术”就是指在一个真空室内,完成P、I、N三层非晶硅的沉积方法。作为工业生产的设备,重 点考虑生产效率问题,因此,工业生产用的“单室,多片玻璃衬底制造技术”的非晶硅沉积,其配置可以由X个真空室组成(X为≥1的正整数),每个真空室可以 放Y个沉积夹具(Y为≥1的正整数),例如:

•1986年哈尔滨哈克公司、1988年深圳宇康公司从美国Chronar公司引进的内联式非 晶硅太阳能电池生产线中非晶硅沉积用6个真空室,每个真空室装1个分立夹具,每1个分立夹具装4片基片,即生产线一批次沉积6×1×4=24片基片,每片 基片面积305mm×915mm。

•1990年美国APS公司生产线非晶硅沉积用1个真空室,该沉积室可装1个集成夹具,该集成夹具可装48片基片,即生产线一批次沉积1×48=48片基片,每片基片面积760mm×1520mm。

 

•本世纪初我国天津津能公司、泰国曼谷太阳公司(BangKok Solar Corp)、泰国光伏公司(Thai Photovoltaic Ltd)、分别引进美国EPV技术生产线,非晶硅沉积也是1个真空室,真空室可装1个集成夹具,集成夹具可装48片基片,即生产线一批次沉积 1×48=48片基片,每片基片面积635mm×1250mm。

•国内有许多国产化设备的生产厂家,每条生产线非晶硅沉积有只用1个真空室,真空室可装2个沉 积夹具,或3个沉积夹具,或4个沉积夹具;也有每条生产线非晶硅沉积有2个真空室或3个真空室,而每个真空室可装2个沉积夹具,或3个沉积夹具。总之目前 国内主要非晶硅电池生产线不管是进口还是国产均主要是用单室,多片玻璃衬底制造技术,下面就该技术的生产制造工艺作简单介绍。

二、                 非晶硅太阳能电池制造工艺

1、         内部结构及生产制造工艺流程

下图是以美国Chronar公司技术为代表的内联式单结非晶硅电池内部结构示意图:

 

图1、内联式单结非晶硅电池内部结构示意图

 


 

 

生产制造工艺流程:


 

SnO2导电玻璃-SnO2膜切割-清洗-预热-a-Si沉积(PIN)-冷却-a-Si切割-掩膜镀铝-测试1-老化-测试2-UV保护层-封装-成品测试-分类包装

 

下图是以美国EPV公司技术为代表的内联式双结非晶硅电池内部结构示意图:

图2、内联式双结非晶硅电池内部结构示意图

 


 

它的生产制造工艺流程为:

SnO2导电玻璃-SnO2膜切割-清洗-预热-a-Si沉积(PIN/PIN)-冷却-a-Si切割-溅射镀铝-Al切割-测试1-老化-测试2-封装-成品测试-分类包装

2、         内联式非晶硅电池生产工艺过程介绍:

⑴SnO2透明导电玻璃(或AZO透明导电玻璃)

规格尺寸:305 mm×915 mm×3 mm、635 mm×1245 mm×3 等

•要求:方块电阻:6~8Ω/□、8~10Ω/□、10~12Ω/□、12~14Ω/□、14~16Ω/□等透过率:≥80%膜牢固、平整,玻璃4个角、8个棱磨光(目的是减少玻璃应力以及防止操作人员受伤)

 

⑵红激光刻划SnO2膜

根据生产线预定的线距,用红激光(波长1064nm)将SnO2导电膜刻划成相互独立的部分,目的是将整板分为若干块,作为若干个单体电池的电极。

•激光刻划时SnO2导电膜朝上(也可朝下)

•线距:单结电池一般是10mm或5mm,双结电池一般20mm

•刻线要求:

绝缘电阻≥2MΩ

线宽(光斑直经)<100um

线速>500mm/S

⑶清洗

将刻划好的SnO2导电玻璃进行自动清洗,确保SnO2导电膜的洁净。

⑷装基片

将清洗洁净的SnO2透明导电玻璃装入“沉积夹具”

基片数量:对于美国Chronar公司技术,每个沉积夹具装4片305 mm×915 mm×3 mm的基片,每批次(炉)产出6×4=24片

对于美国EPV技术,每个沉积夹具装48片635 mm×1245 mm×3 mm的基片,即每批次(炉)产出1×48=48片

⑸基片预热

将SnO2导电玻璃装入夹具后推入烘炉进行预热。

⑹a-Si沉积

基本预热后将其转移入PECVD沉积炉,进行PIN(或PIN/PIN)沉积。

•根据生产工艺要求控制:沉积炉真空度,沉积温度,各种工作气体流量,沉积压力,沉积时间,射频电源放电功率等工艺参数,确保非晶硅薄膜沉积质量。

沉积P、I、N层的工作气体P层:硅烷(SiH4)、硼烷(B2H6)、甲烷(CH4)、高纯氩(Ar)、高纯氢(H2)I层:硅烷(SiH4)、高纯氢(H2)N层:硅烷(SiH4)、磷烷(PH3)、高纯氩(Ar)、高纯氢(H2)

•各种工作气体配比有两种方法:第一种:P型混合气体,N型混合气体由国内专业特种气体厂家配制提供。第二种:PECVD系统在线根据工艺要求调节各种气体流量配制。

⑺冷却

a-              Si完成沉积后,将基片装载夹具取出,放入冷却室慢速降温。

⑻绿激光刻划a-Si膜

根据生产预定的线宽以及与SnO2切割线的线间距,用绿激光(波长532nm)将a-Si膜刻划穿,目的是让背电极(金属铝)通过与前电极(SnO2导电膜)相联接,实现整板由若干个单体电池内部串联而成。#p#分页标题#e#

激光刻划时a-Si膜朝下刻划要求:

线宽(光斑直经)<100um与SnO2刻划线的线距<100um

直线度线速>500mm/S

⑼镀铝

镀铝的目的是形成电池的背电极,它既是各单体电池的负极,又是各子电池串联的导电通道,它还能反射透过a-Si膜层的部分光线,以增加太阳能电池对光的吸收。

•镀铝有2种方法:一是蒸发镀铝:工艺简单,设备投入小,运行成本低,但膜层均匀性差,牢固度不好,掩膜效果难保证,操作多耗人工,仅适用小面积镀铝。二是磁控溅射镀铝:膜层均匀性好,牢固,质量保证,适应小面积镀铝,更适应大面积镀铝,但设备投资大,运行成本稍高。

•每节电池铝膜分隔有2种方法:一是掩膜法:仅适用于小面积蒸发镀铝二是绿激光刻划法:既适用于磁控溅射镀铝,也适用于蒸发镀铝。

⑽绿激光刻铝

(掩膜蒸发镀铝,没有该工序)对于蒸发镀铝,以及磁控镀铝要根据预定的线宽以及与a-Si切割线的线间距,用绿激光(波长532nm)将铝膜刻划成相互独立的部分,目的是将整个铝膜分成若干个单体电池的背电极,进而实现整板若干个电池的内部串联。

•激光刻划时铝膜朝下

•刻划要求:线宽(光斑直经)<100um 与a-Si刻划线的线距<100um

直线度线速>500mm/S

⑾IV测试:

通过上述各道工序,非晶硅电池芯板已形成,需进行IV测试,以获得电池板的各个性能参数,通过对各参数的分析,来判断莫道工序是否出现问题,便于提高电池的质量。

⑿热老化:

将经IV测试合格的电池芯板置于热老化炉内,进行110℃/12h热老化,热老化的目的是使铝膜与非晶硅层结合得更加紧密,减小串联电阻,消除由于工作温度高所引起的电性能热衰减现象。

三、                 非晶硅电池封装工艺

薄膜非晶硅电池的封装方法多种多样,如何选择,是要根据其使用的区域,场合和具体要求而确定。不同的封装方法,其封装材料、制造工艺是不同的,相应的制造成本和售价也不同。下面介绍目前几种封装方法:

1、            电池/UV光固胶

适用:电池芯板储存制造工艺流程:电池芯板→覆涂UV胶→紫外光固→分类储存

2、            电池/PVC膜

适用:小型太阳能应用产品,且应用产品上有对太阳能电池板进行密封保护,如风帽、收音机、草坪灯、庭院灯、工艺品、水泵、充电器、小型电源等

制造工艺流程:

电池芯板→贴PVC膜→切割→边缘处理→焊线→焊点保护→检测→包装

(注:边缘处理目的是防止短路,边缘处理的方法有化学腐蚀法、激光刻划法等)

3、            组件封装

⑴电池/PVC膜

适用:一般太阳能应用产品,如应急灯,要求不高的小型户用电源(几十瓦以下)等

制造工艺流程:

电池芯板(或芯板切割→边缘处理)→贴PVC膜→焊线→焊点保护→检测→装边框(电池四周加套防震橡胶)→装插座→检测→包装

该方法制造的组件特点:制造工艺简单、成本低,但防水性、防腐性、可靠性差。

⑵电池/EVA/PET(或TPT)

适用:一般太阳能应用产品,如应急灯,户用发电系统等制造工艺流程:电池芯板(或芯板切割→边缘处理)→焊涂锡带→检测 →EVA/PET层压→检测→装边框(边框四周注电子硅胶)→装接线盒(或装插头)→连接线夹→检测→包装该方法制造的组件特点:防水性、防腐性、可靠性 好,成本高。

⑶电池/EVA/普通玻璃

适用:发电系统等

制造工艺流程:

电池芯板→电池四周喷砂或激光处理(10mm)→超声焊接→检测→层压(电池/EVA/经钻孔的普通玻璃)→装边框(或不装框)→装接线盒→连接线夹→检测→包装

该方法制造的组件特点:防水性、防腐性、可靠性好,成本高。

⑷钢化玻璃/EVA/电池/EVA/普通玻璃

适用:光伏发电站等

制造工艺流程:

电池芯板→电池四周喷砂或激光处理(10mm)→超声焊接→检测→层压(钢化玻璃/EVA/电池/EVA/经钻孔的普通玻璃)→装边框(或不装框)→装接线盒→连接线夹→检测→包装

该方法制造的组件特点:稳定性和可靠性好,具有抗冰雹、抗台风、抗水汽渗入、耐腐蚀、不漏电等优点,但造价高

 

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