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飞秒激光直写技术刻写弱反射光纤光栅阵列

激光制造网 2023-04-21 我要评论(0 )   

  全同弱反射光纤光栅阵列  全同弱反射光纤阵列在分布式传感领域有很重要的运用,不仅可以极大提升FBG解调系统(DAS、DTS、OFDR等)的复用容量和传感距离,而且可以...

  全同弱反射光纤光栅阵列

  全同弱反射光纤阵列在分布式传感领域有很重要的运用,不仅可以极大提升FBG解调系统(DAS、DTS、OFDR等)的复用容量和传感距离,而且可以进一步空间分辨率和测量精度。结合飞秒光栅的高温特性,可以很好运用到油井勘探、石油化工、周界安防、桥梁大坝、航空航天等领域。

  如图2,刻写的全同弱反射光栅阵列参数如下:中心波长为1550nm,光栅长度为1mm,光栅间距为5mm,光栅数量为50个,背向反射信号强度提升35dB,刻写结果相对稳定。

  全同弱反射光纤光栅OFDR测试谱

  上海津镭光电科技有限公司开发的光纤光栅加工设备,采用飞秒激光直写技术,刻写的光栅阵列具有操作简单,无须掩模板,无须剥离涂覆层,无须载氢和二次涂覆等优点,可以很大程度保持光纤原有的抗拉强度,所刻写的单模光纤光栅最高可耐1000℃高温,长期稳定性好的特点。


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