9月9日，德国联邦总统办公室公布了2020年德国未来奖（Deutscher Zukunftspreis 2020）入围名单——一种利用极紫外光刻技术来提升微芯片生产水准的技术，蔡司、通快和来自耶拿的弗劳恩霍夫应用光学与精密机械研究所（Fraunhofer IOF）均参与了这项技术的研发工作。蔡司半导体事业部Peter Kürz博士、通快半导体制造激光系统有限责任公司Michael Kösters博士以及弗劳恩霍夫的Sergiy Yulin博士是该项目的主要负责人。

从左至右：Peter Kürz博士，Michael Kösters博士，Sergiy Yulin博士

世界上唯一的EUV光刻机制造商是荷兰阿斯麦公司（ASML），该公司作为集成商设计了整个系统的体系结构，尤其是EUV源。这些机器的关键部件是来自通快的高功率激光器（用于EUV光源）和蔡司的光学系统。EUV代表“极端紫外线”，即具有极短波长的光。利用这种技术，可以生产出比以往任何时候都更强大，更节能和更具成本效益的微芯片。毕竟，如果不进一步大幅提高计算能力，就无法实现成功的数字化。

如今，智能手机已经具有1969年首次登陆月球时设备的数百万倍的计算能力，仅仅是指尖大小的微芯片就可以做到这一点，这样的微芯片包含超过100亿个晶体管。最新一代芯片的生产是基于EUV灯的使用，它克服了以往技术上的限制。从光源到真空中的光学系统再到此过程中使用的反射镜的表面涂层，实际上，整个曝光技术都必须从头开发。

这三位候选人为EUV技术的发展和产业成熟做出了重大贡献，他们获得了2,000多项专利保护的技术，这是技术进步和日常生活数字化的基础。通快集团管理委员会副主席兼首席技术官Peter Leibinger说：“我们对获得德国未来奖的提名感到非常高兴。它再次验证了EUV技术未来发展的潜力。这归功于我们与蔡司，弗劳恩霍夫和ASML公司的合作，在这一未来技术方面，我们能够在德国和欧洲、日本和美国的企业进行竞争，而世界上最好的制造微芯片的机器来自欧洲这一事实是我们共同撰写的传奇。这种独特合作的成功在于相互信任和持续努力。”

借助世界上目前最强大的脉冲工业激光器，通快为当下每一部智能手机中使用的最现代微芯片提供了关键组件。除了提供EUV光刻所需的光之外，该激光器目前没有其他更为经济的应用。Leibinger对此评价道：“目前，只有通快能够提供EUV光刻所需的激光器。没有这些激光器，就无法实现诸如人工智能或自动驾驶这样的未来技术，因为它们需要大量的计算能力。在这种情况下，会获得提名也是实至名归。在激光器诞生60周年之际，2020年德国未来奖的提名再次凸显了激光这种工具对于德国作为工业基地的重要性。”

“我们非常荣幸能与合作伙伴一起获得提名，这是一项极其复杂的开发工作，该技术将被转化为主导全球市场的技术。”蔡司集团管理董事会成员兼半导体制造技术部门负责人Markus Weber博士继续说：“蔡司代表着出色的光学性能和精度，这一直是芯片生产的关键因素。EUV技术及反射式光学系统是一种跨越式的创新，需要创意和毅力才能从构思发展到今天的系列生产，照明系统的质量和形状以及投影光学系统的分辨率决定了微芯片上的微小结构。EUV继续推动商业和社会数字化领域的重大进步。很荣幸能与我们的战略合作伙伴ASML、通快和弗劳恩霍夫一起为此做出贡献。”

基本创新还取决于反射镜，即使是最小的不规则性也会导致成像错误，因此EUV光刻技术还需要世界上“最精确”的反射镜，弗劳恩霍夫是反射镜镀膜技术的重要研究合作伙伴。

“弗劳恩霍夫是半导体技术的先驱之一。我们的研究所和机构已经在EUV光刻领域进行了30年的研究探索。我们的研究人员在首批EUV反射镜和光束源的开发中发挥了重要作用，为这项技术的突破奠定了基础。”弗劳恩霍夫总裁Reimund Neugebauer教授解释说：“得益于科学研究与工业应用之间的长期紧密合作，我们已成功实现了在这一创新领域的广泛应用。EUV光刻是可以通过合作、研究精神和信守承诺等方式来实现技术和经济附加值的杰出典范。”

创新工程和科学成就奖

德国未来奖（Deutscher Zukunftspreis）自1997年诞生以来，每年颁发一次，是德国最重要的科学奖项之一。该年度奖项旨在表彰在科学领域取得突破性成果并实现这些新科学成果后续工业应用的创新团队。评审团每年从大量项目中选出三个研究团队，进入该奖项最后一轮进行角逐。除了创新表现，评审团还将评估经济和社会潜力。该奖项将于2020年11月25日在柏林由联邦总统弗兰克-瓦尔特·斯坦米尔（Frank-Walter Steinmeier）颁发。