由于激光加热蒸发是独特的物理过程，故激光薄膜沉积有以下优点：

    (1)激光器安装在真空室外，简化了真空室内部的空间布置。由于采用非接触式加热不需要坩埚，避免了坩埚的污染，适宜在超高真空下制备高纯薄膜。

    (2)镀膜装置灵活性大。可以设置多个靶，施行顺序蒸发，一次完成多层膜的原位沉积产生原子级清洁的界面。

    (3)可以蒸发金属、半导体、陶瓷等各种无机材料。有利于解决高熔点材料，如氮化物、硼化物、硅化物等的薄膜沉积问题。

    (4)可引入各种活性气体，如氢、氧等，制备氢化物和氧化物薄膜。

    (5)靶材用量少。靶的尺寸原则上只要比束斑大一点即可。故适于制备稀有贵重金属薄膜。