OPTIPRO是一个功能强大的用于光学参数测定的光谱测量系统,可测量Mueller矩阵。它是包括光源和笔记本电脑的简易而紧凑的系统,便携易用。而且可与LCD MASTER配合工作,使测量数据转移到LCD模拟和仿真软件“LCD MASTER”中来研究整个光学系统的性能。此外,它的分析速度非常快,分析仪的测量时间小于30毫秒;操作的灵活性强,系统配置可以简单地改变或增加必要的零件,从而以最小的投入而使其功能得以很好地扩展。

主要特色:
•高速——分析仪的测量时间小于30毫秒
•灵活性——独立的光源,偏光片,样品台和分析仪,系统配置可以简单地改变或增加必要的零件,该功能可以以最小的投入而被扩展。
•与LCD MASTER 集成——测量数据可以转移到我们的LCD模拟和仿真软件“LCD MASTER”来研究整个光学系统的性能,包括正在测试的样品。
基本规格:
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  | 
            
             Retardation(Δnd)  | 
            
             光轴方向  | 
        
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             测量分辨率  | 
            
             0.01(nm)  | 
            
             0.01(deg)  | 
        
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             可重复性  | 
            
             3σ<0.05(nm)  | 
            
             3σ<0.05(deg)  | 
        
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             测量时间  | 
            
             30(msec)  | 
        |
测量参数:

Retardation(Δnd)
•光轴方位
•偏振转换特征(Stokes参数)
•LC 单元的预倾斜和扭转角
以及:
•XY工作台的二维分布
•θ-Φ工作台的角度分布
•温度控制平台
OPTIPRO的应用:
•光学薄膜分析:开发,品质认证(QC)
•LC透镜
•WV或NLC专用薄膜分析
•图像配置层的开发
•LC元参数分析: TN, VA, IPS, OCB, ECB等
•多区域LC单元分析,PSVA或Photo配置:Pre-tilt, cell gap, twist angle, rubbing direction angle.
•生物材料开发:旋光(Optical rotation)

 
测量原理:
•分析仪旋转方法

OPTIPRO种类:

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