4月10日下午，极端光学技术与仪器全国重点实验室2026年度成果发布会在浙江大学杭州国际科创中心（简称科创中心）举行。浙江大学光电科学与工程学院党委书记刘波，科创中心党工委书记董世洪等出席会议以及来自萧山区政府、相关产业界专家及媒体代表等参加会议。发布会由极端光学技术与仪器全国重点实验室主任刘旭主持。

会上集中发布了高亮度极紫外阿秒光源、桌面式极紫外光显微镜、万通道3D纳米激光直写光刻机3项代表性成果，刘旭教授指出，面向半导体制造与前沿科学关键需求，这些技术在光刻装备、极紫外成像及先进光源等方向取得重要突破，整体技术水平达到国际领先水平。

研究团队介绍，在高功率超快光源在芯片制造中几乎不产生热量，可有效减少对材料的损伤，同时高亮度极紫外阿秒光源也让“看清微观世界”成为可能。此外，基于极紫外光的显微技术，不仅能观察结构形貌，还能识别元素分布和物质组成，为理解物质结构和生命过程提供了新的手段。

在此基础上，团队研制的桌面式极紫外光学显微镜分辨率优于25纳米，可同时获取结构与化学信息，配套光源系统稳定高效、支持长时间运行，推动高端仪器从依赖大型装置走向小型化应用。

团队还进一步开发了万通道3D纳米激光直写光刻机，为光子芯片、高端掩模版等领域提供关键支撑。针对传统单通道加工效率不足的问题，团队通过光场调控，在系统中实现上万个可独立控制的激光焦点。浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室副主任匡翠方介绍道，这相当于“同时用1万支笔写1万个不同的字”，而难点在于既要写得快，还要写得精细、均匀。基于这一突破，设备在保证亚30纳米加工精度的同时，大幅提升制造效率，为大面积、高精度微纳结构的规模化制备提供了新路径。

接下来，相关成果未来将在集成电路制造、先进材料分析、超快科学等领域加速落地，进一步推动高端光学技术与产业深度融合。

△△高亮度极紫外阿秒光源

△桌面式极紫外光显微镜

△万通道3D纳米激光直写光刻机