飞秒刻光路,国产筑芯基 | 华日飞秒赋能光波导精密刻写

  华日激光

随着 CPO 共封装光引擎、铌酸锂集成光子芯片、量子光互连、红外微型传感器件产业化提速,微纳光波导正向三维立体化、超低传输损耗、多基材兼容、大批量精密制造四大方向演进。


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光波导成型质量完全由飞秒光源本征性能决定,行业长期存在四大光源瓶颈:


1、脉冲稳态短板制约低损耗量产

高重复频率区间脉冲能量波动大,造成波导折射率分布不均,传输损耗陡增;


2、光束波前畸变造成深层成型失效

光束波前畸变严重,深层加工截面失形,线宽一致性差;


3、波段单一适配基材有限

红外 / 绿光波段单一,无法覆盖石英、晶体、聚合物全基材改性阈值;


4、进口光源供应链与服务瓶颈

海外交付周期长,空间光路结构需高频人工校准,无法适配国内产线 7×24 连续工业化生产需求。


针对上述产业化卡点,华日基于全光纤 Revo工业飞秒激光器,面向光波导内部折射率改性、微结构烧蚀全工艺链路,从脉冲、光束层面提供国产化光源解决方案。


高重频区间脉冲稳态调控

适配低能折射率改性工艺


针对光波导低能量改性加工场景痛点,Revo 系列光纤飞秒实现 1Hz~1.2MHz 宽重频连续可调,脉冲能量波动 RMS<1%,长时连续加工功率漂移可控。


光斑与能量稳定性      功率/脉宽曲线

高保真近衍射极限光束

消除深层加工像差干扰


自研自适应光束调制光路,补偿玻璃内部不同加工深度球面像差、色差,保证任意深度聚焦光斑圆度>95%,加工无纵向畸变。


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单线波导显微效果

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多规格线宽阵列

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波导截面阵列 

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波导截面阵列

可稳定刻制6.9μm~19μm区间可控波导线宽;显微形貌表征显示波导正视图阵列平行度优异,侧截面轮廓规整,截面长宽比可按需定制,单模 / 多模波导几何尺寸一致性偏差<0.5μm。


双波段模块化光源 

覆盖全品类光子基材加工


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针对不同材料多光子电离阈值差异,华日推出双波段专用飞秒光源,精准匹配各类光波导基材改性需求:


Revo 1035nm 红外飞秒激光器

适配熔融石英、超低膨胀微晶玻璃、铌酸锂、Yb:YAG/Nd:KGW 激光晶体等硬质厚介质,可深层写入双线型、凹陷包层光波导,多用于片上调制器、波导激光器制备。


Revo  517nm 绿光飞秒激光器

适配 PMMA、硫系光敏玻璃、稀土掺杂薄玻璃,双光子聚合效率更高,适合可见光波段低损耗聚合物光波导、微型传感光路刻写。


全光纤工业构架

适配量产场景


Revo 系列采用全光纤 一体化架构:


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密封免调校光路,无日常光路对准维护,工业宽温环境稳定运行;


输出功率、脉冲时序数字化程控,可与三维运动系统、在线显微监测设备联动通讯;


核心器件 100% 国产自研,备件交付周期大幅缩短,长期运维成本较进口飞秒降低,适配科研单位工艺迭代、光电子企业批量波导生产。

以稳定飞秒脉冲调控介质折射率,用国产光源构筑集成光子产业根基。华日Revo工业飞秒激光器,专为微纳光波导刻写场景深度定制,以硬核光束性能、工业级稳定输出、全基材适配能力,成为三维光波导直写首选国产超快光源。


申明
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